Przyjmujemy zgłoszenia na rezydencje artystyczne w latach 2016–2017. Artyści podejmujący w swojej twórczości tematykę dziedzictwa żydowskiego, podczas trzytygodniowych pobytów realizują we współpracy z muzeum projekty, włączając do swych działań mieszkańców Warszawy. Na zgłoszenia czekamy do 20 maja.

Wiosną 2016 roku realizacje powstałe w ramach pierwszej edycji programu zaprezentowane zostały na wystawie Obecność/ Brak/ Ślady. Współcześni artyści o żydowskiej Warszawie.

W ramach drugiej edycji programu (2016–2017) chcemy kontynuować rozwijaną do tej pory strategię pracy z historią Żydów polskich. Interesuje nas m.in. krytyczna analiza współczesnej debaty publicznej, pamięci społecznej, żydowskiego dziedzictwa kulturowego, wiedzy i wyobraźni potocznej. Ale także ponadnarodowe praktyki pamięci czy alternatywne polityki historyczne.

W tych obszarach czekamy na projekty skupione na najnowszej historii, tj. po 1989 roku. Chcemy, by ostatnie dekady i polski kontekst lokalny stanowiły dla realizowanych projektów punkt wyjścia. Zachęcamy artystów – przy wsparciu kuratorek projektu – do nawiązywania relacji i do współpracy z lokalnymi społecznościami.

Każdy pobyt twórczy kończy spotkanie z rezydentem przybliżające publiczności praktykę twórczą artysty i realizowany w Muzeum POLIN projekt. Prowadzone jest ono przez eksperta, który dodatkowo komentuje pracę artysty w formie krótkiego tekstu krytycznego.

Powstałe w ramach programu prace mają szansę trafić do kolekcji Muzeum POLIN, a także wzbogacić część naszej wystawy stałej odnoszącą się do współczesnego życia żydowskiego w Polsce.

Artystom zapewniamy pokrycie kosztów podróży, zakwaterowanie, częściowe wyżywienie (diety), budżet produkcyjny oraz honorarium, a także pomoc i wsparcie zespołu projektu.

Na zgłoszenia czekamy do 20 maja.

Pobyty twórcze w latach 2016-2017:

    11–31 lipca 2016
    19 września – 9 października 2016
    14 listopada – 4 grudnia 2016
    16 stycznia – 5 lutego 2017
    20 lutego – 12 marca 2017